-
1 ion etching
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > ion etching
-
2 ion etching
= ion-beam sputter etching ионное травление -
3 ion etching
= ion-beam sputter etching ионное травлениеThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > ion etching
-
4 ion etching
физ. ионное травление -
5 ion etching
-
6 ion etching
The English-Russian dictionary general scientific > ion etching
-
7 ion etching
-
8 ion etching
pemunaran ion -
9 ion etching
[ʹaıənʹetʃıŋ] физ. -
10 ion etching
['aɪən'etʃɪŋ]1) Общая лексика: травление ионной бомбардировкой2) Техника: ионно-лучевое травление, ионное травление -
11 ion etching
іонне [іонно-променеве] травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > ion etching
-
12 ion etching
-
13 ion etching
фіз. -
14 ion etching
фіз. -
15 ion etching
x. (물)이온에칭(금속등에 고에너지 이온을 쬐어 부식시키기) -
16 ion etching
jonu kodināšana -
17 ion etching
trawienie jonowe -
18 ion etching
-
19 ion etching
English-Russian dictionary on household appliances > ion etching
-
20 ion etching
См. также в других словарях:
ion etching — ion etching, a method of eroding materials such as metals, glass, polymers, and body tissue, atom by atom, by bombarding them with high energy ions, in order to reveal their smallest structural features … Useful english dictionary
ion etching — joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching vok. Ionenätzen, n rus. ионное травление, n pranc. décapage ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
ion-etching chamber — joninio ėsdinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching chamber vok. Ionenätzkammer, f rus. камера для ионного травления, f pranc. chambre pour décapage ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
diode ion etching — dvielektrodis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. diode ion etching vok. Diodenätzen, n; Ionenstrahlätzen in einer Diodenätzanlage, n rus. двухэлектродное ионное травление, n pranc. décapage ionique à l… … Radioelektronikos terminų žodynas
high-frequency ion etching — aukštadažnis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. high frequency ion etching vok. Hochfrequenzionenätzen, n rus. высокочастотное ионное травление, n pranc. gravure ionique à haute fréquence, f … Radioelektronikos terminų žodynas